5月21日消息，據(jù)國外媒體報道，三星電子新的基于極紫外光刻(EUV)技術(shù)的5nm芯片生產(chǎn)線，已經(jīng)開始建設(shè)，投資高達(dá)81億美元，計劃在明年下半年投入運(yùn)營。

從外媒的報道，三星是在周三宣布這一生產(chǎn)線已開始建設(shè)的，生產(chǎn)線位于韓國京畿道平澤的三星園區(qū)，是在本月開始建設(shè)的，計劃明年全部建成。

外媒的報道還顯示，三星的這一新的5nm芯片生產(chǎn)線，計劃投資10萬億韓元，也就是約81億美元，建成之后很快就會投入運(yùn)營，三星是計劃在明年下半年就投入運(yùn)營。

采用極紫外光刻技術(shù)，芯片代工商就能順利生產(chǎn)5nm及更先進(jìn)工藝的芯片，三星基于極紫外光刻技術(shù)的7nm工藝，在去年已開始量產(chǎn)，三星在去年也首次宣布他們順利研發(fā)出了基于極紫外光刻技術(shù)的5nm工藝。

三星已開始建設(shè)的這一條5nm EUV生產(chǎn)線，建成后將生產(chǎn)用于5G、高性能計算機(jī)及人工智能領(lǐng)域的芯片。這一條生產(chǎn)線建成之后，三星在韓國和美國的芯片代工生產(chǎn)線，就將增至7條。

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