5 月 17 日消息 據(jù)韓國媒體 BusinessKorea 報導(dǎo)，韓國產(chǎn)業(yè)通商資源部于 5 月 13 日對外宣布，全球光刻機龍頭大廠阿斯麥(ASML)計劃在韓國建設(shè)光刻設(shè)備再制造工廠及培訓(xùn)中心，新廠預(yù)計在 2025 年建設(shè)完成。
所謂再制造，指的是以舊的機器設(shè)備為毛坯，采用專門的工藝和技術(shù)，在原有制造的基礎(chǔ)上進行一次新的制造，而且重新制造出來的產(chǎn)品無論是性能還是質(zhì)量都不亞于原先的新品。
據(jù)媒體介紹，阿斯麥計劃未來四年將在韓國投資 2400 億韓元(約合 13.7 億人民幣)，于京畿道華城市打造一座 EUV(極端遠紫外光源)光刻設(shè)備再制造廠以及一家培訓(xùn)中心，由京畿道政府對阿斯麥在當?shù)氐氖跈?quán)、擴張業(yè)務(wù)提供協(xié)助。其 EUV 光刻設(shè)備再制廠的主要用途就是為韓國當?shù)剡\行的 EUV 光刻機的維護和升級提供助力。
據(jù)IT之家了解，此前韓國發(fā)布半導(dǎo)體強國建設(shè)戰(zhàn)略規(guī)劃，將半導(dǎo)體研發(fā)稅額抵扣率提升至 40～50%，并且還擬斥資約 4500 億美元建設(shè)全球最大的芯片制造基地，韓國想躋身芯片半導(dǎo)體大國行列的意圖不言而喻，此次阿斯麥赴韓國建廠，對加快韓國半導(dǎo)體建設(shè)將會有很大的助力。
