國內又一家企業光刻膠產品取得新進展，上海新陽(300236.SZ)6月30日盤后發布公告稱，公司自主研發的KrF(248nm)厚膜光刻膠已通過客戶驗證，并取得首筆訂單。公司相關負責人表示，這個產品的開發和產業化是公司第三大核心技術——光刻技術的重要方向之一，首筆訂單已經取得，后續該產品將進入產業化階段。
隨著全球缺芯潮繼續蔓延，晶圓代工廠的擴產勢能已傳導至產業鏈上游。而光刻膠作為半導體光刻工藝的核心材料，仍面臨較大缺口。
當下國產光刻膠與國外差距較大，用于生產6英寸硅片的g/i線光刻膠自給率為20%，生產8英寸硅片的KrF光刻膠自給率不足5%，制程更高的ArF和EUV膠則尚無量產，中高端光刻膠的市場份額幾乎被海外龍頭壟斷。
早前受福島地震影響，全球光刻膠龍頭之一的日本信越化學產能受限，并限制對華出口KrF光刻膠，進一步加劇了國內光刻膠供應緊張局面。目前KrF光刻膠在國內僅有彤程新材(603650.SH)的子公司北京科華實現量產，產能為10噸/年左右。
限供和缺貨也加速了光刻膠在本土下游晶圓廠的驗證。除此次發布公告的上海新陽外，南大光電(300346.SZ)自主研發的ArF光刻膠于近日通過第二家客戶驗證，并獲小批量訂單;晶瑞股份(300655.SZ)的KrF光刻膠亦進入客戶驗證尾期。據業內人士介紹，通常情況下，光刻膠研發投產后，需經12～18個月的客戶驗證周期。
在國產化良機推動下，上述公司也在加碼半導體光刻膠的相關研發和產能建設。上海新陽和晶瑞股份都在今年上半年購入ASML光刻機，用于濕法ArF光刻膠的研發;彤程新材則在5月發布公告稱，子公司彤程電子投資5.7億元在上海建設年產1.1萬噸半導體、平板顯示用光刻膠及2萬噸相關配套試劑項目。
